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玻璃镀膜工艺中的提高膜的附着强度的措施,玻璃表面镀膜工艺
作者: 发布时间:2019-09-06 19:37

膜层的附着强度是膜层附着在基片表面上的牢固程度。

1.提高基片温度

提高基片温度对排除基片表面的残余气体分子是有利的。同时,高温会促进物理吸附向化学吸附转化,增加基片与沉积材料之间的附着力。

2.选择合适的工作压力

正确选择真空室的工作压力。

3.采用较小的蒸发角度

因为基片或工件的表面总有极少的微颗粒黏附着,当蒸发材料的蒸气分子斜射过来时,由于颗粒的阻挡,颗粒的背后便形成一个扩大了的砂眼。蒸发源与基片的角度一般不超过60°,否则镜面漫反射严重,附着力下降,膜层不均匀。

4.选择适当的膜厚

膜层与基片界面因应力而产生的剪切力与膜厚成正比,因此,如果膜太厚,剪切力可能大于附着力而导致膜的脱落。一般膜厚40~100nm为宜。

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5.对基片有一定的要求

蒸发镀膜用的基片需符合下述要求:表面具有较高的平整度,光学变形小;较好的化学稳定性,不与膜材发生反应;具有一定的热稳定性及抗热冲击性能,以承受工艺过程中的烘烤加热;应具有一定的机械强度;热膨胀系数应与薄膜膨胀系数接近,防止薄膜产生应力而剥落。

6.基片镀膜前需认真处理

基片进入镀膜室前必须清除表面灰尘、油污、水分及各种化合物,尤其是清除带斑点的氧化层,使基片表面清洁;基片材料不同,处理方法也不同。玻璃基片在生产、运输、贮存过程中往往受到不同程度的污染,甚至受到化学物质的侵蚀。为提高镜面膜层质量,必须对玻璃进行认真的清洗、干燥和贮存。生产时尽量避免中途停机及多次充入空气,以免带有杂质的气流冲向基片表面,造成膜层附着力下降。

7.成膜前用电子或离子对基片轰击、加热

清洁处理过的基片,成膜前放在等离子区用电子或离子进行轰击、加热,使吸附在基片上的水、油分子及污物进一步被除掉,同时使基片温度适当提高,以降低内应力,提高膜的附着力。对玻璃镜而言,只要将玻璃在50~100℃之间进行烘烤,便可满足要求。

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